专业提供扫描式光刻机和掩模对准机设备，适用于 300mm 和 200mm 晶圆上的先进封装，如需了解设备详细参数可联系我们人员进一步沟通。
扫描式光刻机为先进的晶圆加工提供了独特的投影光刻解决方案。它们将全场紫外线曝光与单次连续扫描相结合，确保获得一致的结果，不会出现拼接或过度曝光缺陷。我们的系统专为高吞吐量和非接触式操作而设计，可在半导体、微机电系统和先进封装的各种应用中实现经济高效的高分辨率光刻。
掩模对准机结合了精确的对准精度和先进的曝光光学系统，能够应对严格的光刻挑战。它们专为高达 300 毫米的基底而设计，可在从研发到大批量生产的任何规模的各种应用中提供稳定的对准、高良率和可靠的结果。
